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陶瓷覆铜板工艺能力

陶瓷材质 氮化硅 氧化铝 氮化铝
外形尺寸 尺寸大小 3mm×3mm~300mm×300mm 3mm×3mm~300mm×300mm 3mm×3mm~300mm×300mm
尺寸公差 ±0.05mm ±0.05mm ±0.05mm
陶瓷厚度 0.15-1.0mm可定制 0.2-3.0mm可定制 0.15-2.0mm可定制
铜厚 0.035-0.8mm 0.035-0.5mm 0.035-0.5mm
板厚公差 板厚<0.5mm:±0.03mm
板厚≥0.5mm:±0.05mm
板厚<0.5mm:±0.03mm
板厚≥0.5mm:±0.05mm
板厚<0.5mm:±0.03mm
板厚≥0.5mm:±0.05mm
翘曲度 <0.05%@50mm <0.05%@50mm <0.05%@50mm
孔径 孔径大小 min:0.2mm min:0.2mm min:0.2mm
孔径公差 ±0.05mm ±0.05mm ±0.05mm
覆铜工艺 AMB、DPC DBC、DPC DBC、DPC、AMB
表面处理 整体OSP或整体沉银、镍、镍金或局部沉银、镍、镍金可按照客户要求定制

陶瓷覆铜板工艺能力

铜厚 (mm) 线宽 (mm) 线距 (mm) 线宽公差 蚀刻因子 覆铜工艺
0.018 0.1 0.1 ±20% >3.5 DPC
0.035 0.12 0.12 ±20% >3.5 DPC
0.07 0.15 0.15 ±20% >3.5 DPC
0.1 0.20 0.25 ±15% >3.5 DPC、DBC、AMB
0.2 0.25 0.35 ±15% >3.5 DBC、AMB
0.3 0.35 0.50 ±15% >3.5 DBC、AMB
0.4 0.40 0.60 ±10% >3.5 DBC、AMB
0.5 0.50 0.75 ±10% >3.0 DBC、AMB
0.6 0.50 0.85 ±10% >3.0 DBC、AMB
0.7 0.50 1.00 ±10% >3.0 DBC、AMB
0.8 0.50 1.00 ±10% >3.0 DBC、AMB

说明:详细工艺能力见《珠海晶瓷电子产品规格书》

设计基线:

产品档案:

Technical Expertise

工艺 技术能力

陶瓷覆铜板产品主工艺流程

DPC
激光打孔
激光打孔
溅射成膜
溅射成膜
电镀铜
电镀铜
图形蚀刻
图形蚀刻
激光切割
激光切割
DBC
板材清洗
板材清洗
铜片氧化
铜片氧化
铜瓷烧结
铜瓷烧结
图形蚀刻
图形蚀刻
激光切割
激光切割
AMB
板材清洗
板材清洗
焊片装载
焊片装载
真空钎焊
真空钎焊
图形蚀刻
图形蚀刻
激光切割
激光切割

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